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西瓜地膜覆盖暖坑早熟栽培技术

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-04-25  浏览次数:872
核心提示:近年来生产实践证明,采用地膜覆盖暖坑抢早直播西瓜的新技术是获得早熟、高产的重要途径。它是在适期直播地膜覆盖的基础上,经过研究改进而创造出来的简易有效的新方法,其

近年来生产实践证明,采用地膜覆盖暖坑抢早直播西瓜的新技术是获得早熟、高产的重要途径。它是在适期直播地膜覆盖的基础上,经过研究改进而创造出来的简易有效的新方法,其优点:一是提高地温,改善幼苗生长的小气候;二是提前播种,比一般直播提前10~15天;三是早成熟,提早上市,效益显著。

一、暖坑的作法

(一)挖播种坑

在整好的播种垄上,按株距挖播种坑。坑深15~18cm,然后往坑内施入发酵好的有机肥0.5~1.0公斤,土粪混匀,作成深10~12cm,宽15~18cm的浅坑。

(二)播种、覆土

坑内浇足底水,水渗完后,播2~3粒已浸过的或催芽的种子,播种后覆2~3cm厚的湿润细土。

(三)覆膜

播完后立即盖上地膜,地膜要平、直、紧的盖在垄上,每个播种坑就形成单个地下温室。在阳光照射下,不仅提高地温,也明显地提高了播种小坑的温度,形成光能加热的温暖小坑。

二、品种选择

采用此法可提早成熟,若再选用早熟品种,其早熟效果更好。既可采用早熟品种,也可采用中晚熟品种,都比一般地膜覆盖成熟早。

三、适期播种

通常适宜的播期是比一般地膜覆盖提早10~15天,即在终霜前10~15天播种为适期。具体播种时间应结合当地气候条件而定。

四、破膜放苗

待晚霜已过,气温稳定升高,要及时破膜放苗,把已有2-4片真叶的秧苗从暖坑拿出膜外,用手将地下坑稍整平,用湿土把根茎部与膜口盖严压实,让瓜苗在露天生长,根系仍在地膜保护下生长。

五、防低温冻苗

早春气温低,播种后要时刻注意天气变化,预防低温冷害和冻害。若降温,可在膜上撒一层干细土或用草盖住,等天气转暖时再将膜上的细土和或草等覆盖物除净。

六、防高温烤苗

早春气温多变,既要防止冻害,也要防高温烤苗。当外界气温达30℃时,坑内温度达40℃左右。在这种高温的条件下必须放风降温,严防高温烤苗。放风时在距坑内小苗北侧3~5cm处,把地膜扎手指粗的孔眼2-3个,促使地膜内通风换气。放风宜早,最好在上午9~10时进行,严防中午突然放大风闪苗。通常,在气温25℃以下又是多云天气,可不放风。其它管理同地膜覆盖栽培即可。 来源:北国农网

 

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